UNICORN-620N Series ★於2016年榮獲台積電品質獎第一名★ ◎ 特點: 適用於 28 nm – 5 nm 製程中之Mask Inspection 檢測時不需開啟 SMIF POD,無二次汙染之疑慮 Mask Shop 之光罩製程 Blank / ADI / AEI 微塵即時監控 用於 EUV 光罩背面 / 裸片之微塵即時監控 高精度缺陷位置檢測 ◎ 應用: 用於 Mask Shops Processing Inspection 用於 Mask Blank Manufacturers