艾斯邁科技股份有限公司

◎ 特點：

• 適用於 28 nm – 5 nm 製程中之Mask Inspection

• 檢測時不需開啟 SMIF POD，無二次汙染之疑慮

• Mask Shop 之光罩製程 Blank / ADI / AEI 微塵即時監控

• 用於 EUV 光罩背面 / 裸片之微塵即時監控

• 高精度缺陷位置檢測

◎ 應用：

• 用於 Mask Shops Processing Inspection

• 用於 Mask Blank Manufacturers