艾斯迈科技股份有限公司

◎ 特点：

• 适用于 28 nm – 5 nm 制程中之 Mask Inspection

• 检测时不需开启 SMIF POD，无二次污染之疑虑

• Mask Shop 之光掩膜制程 Blank / ADI / AEI 微尘即时监控

• 用于 EUV 光掩膜背面 / 裸片之微尘即时监控

• 高精度缺陷位置检测

◎ 应用：

• 用于 Mask Shops Processing Inspection

• 用于 Mask Blank Manufacturers