UNICORN-620N Series ★于2016年荣获台积电品质奖第一名★ ◎ 特点: 适用于 28 nm – 5 nm 制程中之 Mask Inspection 检测时不需开启 SMIF POD,无二次污染之疑虑 Mask Shop 之光掩膜制程 Blank / ADI / AEI 微尘即时监控 用于 EUV 光掩膜背面 / 裸片之微尘即时监控 高精度缺陷位置检测 ◎ 应用: 用于 Mask Shops Processing Inspection 用于 Mask Blank Manufacturers