艾斯迈科技股份有限公司

◎ 特点：

• 适用于 EUV 光掩膜检测

• Pattern Side、Pellicle Side 之 particle 检测

• 专用演算法分析 particle 位于膜上 / 膜下

• 高精度缺陷位置检测

◎ 应用：

• 用于 Mask Shops 之 EUV Mask OQC

• 用于 Pellicle Manufacturers