艾斯迈科技股份有限公司

◎ 特点：

• 适用于 45 nm – 7 nm 制程中之 Mask Inspection

• Pin-Hole 检测

• Inner Frame、Pellicle Side 之 particle 检测

• 专用演算法分析 particle 位于膜上 / 膜下

• 高精度缺陷位置检测

◎ 应用：

• 用于 Mask Shops 之 OQC

• 用于 Pellicle Manufacturers