UNICORN-640E Pro Series

◎ 特点:

  • 适用于 EUV 光掩膜检测
  • Pattern Side、Pellicle Side 之 particle 检测
  • 专用演算法分析 particle 位于膜上 / 膜下
  • 高精度缺陷位置检测

◎ 应用:

  • 用于 Mask Shops 之 EUV Mask OQC
  • 用于 Pellicle Manufacturers