艾斯邁科技股份有限公司

◎ 效益：

• 不因他牌檢測設備異常，影響曝光機設備稼動率
  

◎ 應用：

• 45 – 16 nm 製程中先進半導體元件的光罩檢測
  

• Foundries 之光罩進貨 / 曝光前檢測