艾斯邁科技股份有限公司

◎ 效益：

• 提高KLA設備稼動率與節省上機成本
  

• 數據化判定微塵，取代過去人工目檢
  

◎ 應用：

• 7 – 3 nm 製程中先進半導體元件的EUV光罩檢測
  

• Mask Shop 之 OQC
  

• Foundries 之 IQC / 例行性 / 曝光前檢測