◎ 2020

  • 初代 Defect Classification System 発売
  • 2代目EUV Pellicle Inspection Tool 発売

◎ 2019

  • 研究開発センター拡大
  • 3代目 Through POD Mask Inspection Tool 発売
  • 3代目 OQC Mask Inspection Tool 発売
  • 2代目 EUV Mask Inspection Tool 発売
  • 光 CD 計測 Optical CD Measure の研究開発を開始
  • AI 分類技術 Defect Classification の研究開発を開始

◎ 2018

  • 初代 EUV Pellicle Inspection Tool 発売
  • 初代 EUV Mask Inspection Tool 発売
  • ファウンドリ向けフォトマスク検査技術の研究開発を開始

◎ 2017

  • 2代目 Through POD Mask Inspection Tool 発売
  • 3つの特許证を取得
  • EUV Mask 及び EUV Pellicle 検査技術の研究開発及び実用を開始

◎ 2016

  • 2代目 OQC Mask Inspection Tool 発売
  • 6つの实用新案登錄证を取得

◎ 2015

  • 初代 Through POD Mask Inspection Tool 発売
  • Through POD Mask 検査技術の実用開始

◎ 2014

  • Through POD Mask 検査技術の研究開発を開始
  • 初代 OQC Mask Inspection Tool 発売
  • マスクショップ向けフォトマスク検査技術の研究開発及び実用を開始

◎ 2012

  • 1つの实用新案登錄证を取得

◎ 2011

  • 艾斯邁科技股份有限公司(AceMach Co., Ltd.)拡張

◎ 2003

  • 艾斯邁科技有限公司(AceMach Ltd.)設立