◎ 2020

  • 推出第一代 Defect Classification System
  • 推出第二代 EUV Pellicle Inspection Tool

◎ 2019

  • 擴展研發中心
  • 推出第三代 Through POD Mask Inspection Tool
  • 推出第三代 OQC Mask Inspection Tool
  • 推出第二代 EUV Mask Inspection Tool
  • 研發 Optical CD Measure 之量測技術
  • 研發 Defect Classification 之 AI 分類技術

◎ 2018

  • 推出第一代 EUV Pellicle Inspection Tool
  • 推出第一代 EUV Mask Inspection Tool
  • 研發 Foundry 適用之 Optical Mask 檢測技術

◎ 2017

  • 推出第二代 Through POD Mask Inspection Tool
  • 取得3張發明專利
  • 研發並投入 EUV Mask & EUV Pellicle 檢測技術

◎ 2016

  • 推出第二代 OQC Mask Inspection Tool
  • 取得6張新型專利

◎ 2015

  • 推出第一代 Through POD Mask Inspection Tool
  • 投入 Through POD Mask 檢測技術

◎ 2014

  • 研發 Through POD Mask 檢測技術
  • 推出第一代 OQC Mask Inspection Tool
  • 研發並投入 Mask Shop 適用之 Optical Mask 檢測技術

◎ 2012

  • 取得1張新型專利

◎ 2011

  • 改制艾斯邁科技股份有限公司

◎ 2003

  • 成立艾斯邁科技有限公司