艾斯迈科技股份有限公司

◎ 效益：

• 提高KLA设备稼动率与节省上机成本

• 数据化判定微尘，取代过去人工目检
  

◎ 应用：

• 7 – 3 nm 制程中先进半导体元件的EUV光掩膜检测

• Mask Shop 之 OQC
  

• Foundries 之 IQC / 例行性 / 曝光前检测